アニーリング

管理された状態でのレーザー露光により、材料表面の作業で表面の荒さを増減し、特定の表面または広い表面を加熱し、ドーパントを管理した状態で活性化できます。

 

具体的なアプリケーションとしては、シリコンと炭化ケイ素の添加、シリコンのアニーリング、抵抗接点の形成があります。

レーザーは、次の2つの強力な特性を備えた加熱の手段になります。

• 適用されるエネルギーの量を非常に正確に制御でき、通常、エネルギーは材料表面の近くに限定されます。

• その熱の作用点は、数ミクロンの細かさにまで定めることができます。

IPGは幅広いレーザーの波長、エネルギー、ビームデリバリーシステムにわたるものづくりのソリューションを提供します。IPGはお客様と連携して、そのアプリケーションの最適なプロセス条件を実験的に判別してから、反復可能で均一な自動性能を実現するソリューションを設計します。

システム:レーザーニーリング

レーザー:QCW UVファイバーレーザー

  laser annealing exposure chart
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