アニーリング
<p>管理された状態でのレーザー露光により、材料表面の作業で</p>
<p>表面の荒さを増減し、特定の表面または広い表面を加熱し、</p>
<p>ドーパントを管理した状態で活性化できます。</p>
<p>具体的なアプリケーションとしては、</p>
<p>シリコンと炭化ケイ素の添加、</p>
<p>シリコンのアニーリング、</p>
<p>抵抗接点の形成があります。</p>
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レーザーは、次の2つの強力な特性を備えた加熱の手段になります。 • 適用されるエネルギーの量を非常に正確に制御でき、通常、エネルギーは材料表面の近くに限定されます。 • その熱の作用点は、数ミクロンの細かさにまで定めることができます。 IPGは幅広いレーザーの波長、エネルギー、ビームデリバリーシステムにわたるものづくりのソリューションを提供します。IPGはお客様と連携して、そのアプリケーションの最適なプロセス条件を実験的に判別してから、反復可能で均一な自動性能を実現するソリューションを設計します。 システム：レーザーアニーリング レーザー：QCW UVファイバーレーザー |
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