Для обеспечения необходимого контраста при выборе лазерной маркировки учитываются энергетические параметры лазера и скоростные характеристики сканирующей системы, а также способ предварительной обработки поверхности – за счёт механического воздействия либо структурирования иными методами.
Современные комплексы лазерной обработки компании IPG доступны в конфигурациях, оптимизированных для высокоточной микромаркировки широкого круга металлов, полимеров, прозрачных и полупроводниковых материалов. Такие системы комплектуются ультрафиолетовыми и зелёными лазерами с наносекундной длительностью импульса, а также пикосекундными инфракрасными лазерами.
Для идентификации, оперативного контроля и защиты от подделок различных изделий, возможно нанесение двухмерных матричных штрих-кодов субмиллиметровых размеров. Для серийной маркировки изделий полупроводниковой промышленности может использоваться оборудование, совмещённое с системой обработки кристаллических пластин и автоматизированной системой технического зрения. Используемые в таком комплексе УФ-лазеры с короткой длительностью импульса отлично взаимодействуют с большинством полупроводниковых материалов.
Использование при маркировке стекла лазеров с импульсами пикосекундной длительности и сканирующих оптических систем исключает возникновение микротрещин, а созданный на поверхности рельеф остаётся устойчивым перед химической очисткой. При этом ширина полученных линий не превышает 10 мкм. В то же время нанесение информации в подповерхностных слоях прозрачных сред позволяет полностью избежать образования осколков и пыли в ходе обработки.
|